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小山手 厚人 and 藤沢 浩訓 and 中嶋 誠二,MOCVD法によるSi基板上へのBiFeO<sub>3</sub>薄膜のMOCVD成長,応用物理学会学術講演会講演予稿集,2436-7613,公益社団法人 応用物理学会,2020-08-26,2020.2,0,893-893,https://cir.nii.ac.jp/crid/1390010457641404288,https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2020.2.0_893