高感度CMOSイメージセンサ向けシリコンウェーハの製品設計 -炭化水素分子イオン注入によるSiO<sub>2</sub>/Si界面準位の制御-
書誌事項
- タイトル別名
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- Product design of silicon wafer for advanced CMOS image sensors-Control of SiO<sub>2</sub>/Si interface states by hydrocarbon molecular ion implantation-
- 公開日
- 2020-02-28
- DOI
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- 10.11470/jsapmeeting.2020.1.0_2588
- 公開者
- 公益社団法人 応用物理学会
収録刊行物
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- 応用物理学会学術講演会講演予稿集
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応用物理学会学術講演会講演予稿集 2020.1 (0), 2588-2588, 2020-02-28
公益社団法人 応用物理学会
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キーワード
詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390010765206680320
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- ISSN
- 24367613
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC