地熱熱水からのシリカスケール原因物質の除去に関する基礎研究(1): アルミニウムを含むケイ酸ナトリウム溶液からのケイ酸とアルミニウムの同時除去の可能性

  • 米津 幸太郎
    九州大学大学院工学研究院地球資源システム工学部門
  • 大橋 亮
    九州大学大学院工学研究院地球資源システム工学部門
  • サビタ アチャレ
    九州大学大学院工学研究院地球資源システム工学部門
  • 増永 幸
    九州大学大学院工学研究院地球資源システム工学部門
  • 土谷 直史
    九電産業株式会社環境部
  • 藤野 泰寛
    九州大学大学院農学研究院附属遺伝子資源開発センター微生物遺伝子部門
  • 土居 克実
    九州大学大学院農学研究院附属遺伝子資源開発センター微生物遺伝子部門
  • 渡邊 公一郎
    九州大学大学院工学研究院地球資源システム工学部門
  • 糸井 龍一
    九州大学大学院工学研究院地球資源システム工学部門
  • 横山 拓史
    九州大学大学院理学研究院化学部門

書誌事項

タイトル別名
  • A basic study on removal of chemical species causing silica scales from geothermal water (1): Possibility for simultaneous removal of silicic acid and aluminum from sodium silicate solution including aluminum

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説明

<p>To prevent the formation of silica scales at the geothermal power plants, a simultaneous precipitation test of silicic acid and aluminum by addition of cethyltrimethylammonium (CTA+) bromide (Br), which is an organic ammonium salt, was carried out using a sodium silicate solution (400 ppm Si) containing aluminum (5 ppm Al). The concentration of CTA+ added was in the range of 10–6 ~ 10–3 mol dm–3. During the polymerization of silicic acid, aluminum combined to polysilicic acid particle. The negative charge density for the polysilicic acid particle with aluminum was higher than that for pure polysilicic acid particle, suggesting that Al3+ may be substituted with Si4+ in the pure polysilicic acid. It was clearly found that silicic acid and aluminum can be simultaneously precipitated from aqueous solution by the electrostatic interaction between CTA+ and polysilicic acid particle with aluminum. However, the precipitation of polysilicic acid particle significantly depended on the aging effect (time after the polymerization started) of polysilicic acid particles. In spite of the CTA+ concentration, more than 90 % of the aluminum was precipitated even at 10–6 mol dm–3.</p>

収録刊行物

詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1390014404399252608
  • DOI
    10.11367/grsj.44.147
  • ISSN
    18835775
    03886735
  • 本文言語コード
    ja
  • データソース種別
    • JaLC
  • 抄録ライセンスフラグ
    使用不可

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