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魚住 雄輝 and 山崎 達也 and 朝岡 秀人,Ge/Si(111)ヘテロエピタキシャル成長過程におけるSi(111)7×7表面再構成ストレスのその場観察,応用物理学会学術講演会講演予稿集,2436-7613,公益社団法人 応用物理学会,2014-09-01,2014.2,0,1351-1351,https://cir.nii.ac.jp/crid/1390014945747575680,https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2014.2.0_1351