著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
富田 将典 and 図師 知文 and 渡邉 孝信,酸化膜に覆われたナノワイヤ型Si結晶のフォノン分散関係,応用物理学会学術講演会講演予稿集,2436-7613,公益社団法人 応用物理学会,2012-08-27,2012.2,0,2842-2842,https://cir.nii.ac.jp/crid/1390016206135276288,https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2012.2.0_2842