プラズマCVD法を用いたa-C:H薄膜製膜特性に対するガス圧力・基板位置の効果
書誌事項
- タイトル別名
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- Effects of gas pressure and substrate position on deposition characteristics of a-C:H films deposited by plasma CVD method
収録刊行物
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- 応用物理学会学術講演会講演予稿集
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応用物理学会学術講演会講演予稿集 2022.1 (0), 1491-1491, 2022-02-25
公益社団法人 応用物理学会