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川越 進也 and 金 済徳 and 吉田 行男 and 佐々木 公洋 and 畑 朋延,反応性スパッタリングとターゲット Ｐｂ（Ｚｒ，Ｔｉ）Ｏ３薄膜の低温・高速堆積用の固体酸素供給源による反応性スパッタ法の提案,真空,05598516,一般社団法人 日本真空学会,2000,43,8,785-789,https://cir.nii.ac.jp/crid/1390282679040251904,https://doi.org/10.3131/jvsj.43.785