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飯村 靖夫 and 多久島 和弘 and 中野 武雄 and 馬場 茂,電力一定放電下の反応性スパッタリングによる酸化シリコンの組成制御,真空,05598516,一般社団法人 日本真空学会,2006,49,3,171-173,https://cir.nii.ac.jp/crid/1390282679040309888,https://doi.org/10.3131/jvsj.49.171