著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
三島 康由,多結晶Ｓｉ薄膜トランジスタ製作へのプラズマ技術の応用 超高真空スパッタリング装置を用いた多結晶Ｓｉ膜の形成,真空,05598516,一般社団法人 日本真空学会,2001,44,6,578-582,https://cir.nii.ac.jp/crid/1390282679042112384,https://doi.org/10.3131/jvsj.44.578