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近藤 市治 and 近藤 憲司 and 竹中 修 and 永田 雅彦 and 草野 英二 and 金原 粲,低出力Ａｒイオン照射前処理によるＴｉ薄膜／Ｓｉ基板間の密着性の改善,表面技術,09151869,一般社団法人 表面技術協会,1996,47,10,858-862,https://cir.nii.ac.jp/crid/1390282679092526208,https://doi.org/10.4139/sfj.47.858