著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
Hien Tran Thi Thu and Ishizaki Chanel and 石崎 幸三,窒化ケイ素粉末表面のSiH<I><SUB>x</SUB></I>吸収バンドの拡散反射フーリエ変換赤外線分光による解析,Journal of the Ceramic Society of Japan (日本セラミックス協会学術論文誌),09145400,公益社団法人 日本セラミックス協会,2004,112,1301,1-5,https://cir.nii.ac.jp/crid/1390282680225982976,https://doi.org/10.2109/jcersj.112.1