著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI) 木口 賢紀 and 脇谷 尚樹 and 篠崎 和夫 and 水谷 惟恭,YSZ/SiOx/(001)Si薄膜のエピタキシャル成長における極薄SiOx層の役割,Journal of the Ceramic Society of Japan (日本セラミックス協会学術論文誌),09145400,公益社団法人 日本セラミックス協会,2002,110,1281,338-342,https://cir.nii.ac.jp/crid/1390282680226503040,https://doi.org/10.2109/jcersj.110.338