著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
宮田 祐輔 and 奥山 祥孝 and 藤村 紀文,表面再構成構造を利用したSiへの希土類元素の高濃度ドーピング,Journal of Smart Processing,2186702X,一般社団法人 スマートプロセス学会 （旧高温学会）,2013-09-20,2,5,219-223,https://cir.nii.ac.jp/crid/1390282680390748672,https://doi.org/10.7791/jspmee.2.219