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中谷 正憲 and 西村 淳樹 and 花木 聡 and 内田 仁,"高温環境下におけるSiN<sub><font size=""-1"">x</font></sub>/SiC<sub><font size=""-1"">y</font></sub>ナノ積層薄膜の自己き裂治癒挙動",材料,05145163,公益社団法人 日本材料学会,2013,62,10,634-639,https://cir.nii.ac.jp/crid/1390282680422138752,https://doi.org/10.2472/jsms.62.634