電気化学的手法によるセリア薄膜作製における紫外光照射効果
書誌事項
- タイトル別名
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- Influence of UV light irradiation on electrochemical synthesis of ceria thin films
- 公開日
- 2007
- DOI
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- 10.14853/pcersj.2007s.0.248.0
- 公開者
- 公益社団法人 日本セラミックス協会
説明
水溶液中の３価セリウムイオンを電気化学的に酸化すると４価のセリウム水酸化物イオンが金属電極表面に生成し、最終的に電極表面はセリア薄膜で覆われる。一方、セリアはn型半導体として知られており、バンドギャップエネルギー以上に相当するエネルギーを有する光の照射によって成膜中のセリア表面にホールが生成し、これが３価セリウムイオンの酸化反応を促進すると考えられる。本研究では電解法によるセリア皮膜作製時に電極表面に紫外光照射を行い、皮膜の析出量や結晶性に及ぼす影響を調査した。
収録刊行物
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- 日本セラミックス協会 年会・秋季シンポジウム 講演予稿集
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日本セラミックス協会 年会・秋季シンポジウム 講演予稿集 2007S (0), 248-248, 2007
公益社団法人 日本セラミックス協会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390282680593050624
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- NII論文ID
- 130006973716
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC
- CiNii Articles
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可