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尹 涛 and 黒河 周平 and 土肥 俊郎 and 山崎 努 and 王 智達 and タン ツン,強酸化剤を添加したスラリーによるSiCウエハのCMP加工特性,精密工学会学術講演会講演論文集,,公益社団法人 精密工学会,2012,2012A,0,85-86,https://cir.nii.ac.jp/crid/1390282680631807744,https://doi.org/10.11522/pscjspe.2012a.0.85.0