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多賀 稜 and 唐 佳芸 and Yu Zhou and 小川 修一 and 高桑 雄二,p型とn型Si(001)表面室温酸化におけるO2解離吸着過程の比較,表面科学学術講演会要旨集,,公益社団法人 日本表面真空学会,2015,35,0,388,https://cir.nii.ac.jp/crid/1390282680655262336,https://doi.org/10.14886/sssj2008.35.0_388