著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI) 黒岩 繁樹 and 佐竹 大輔 and 山内 悠 and 野村 聡 and 逢坂 哲彌,自己組織化単分子膜修飾REFETの応答特性に関する理論的考察,表面科学学術講演会要旨集,,公益社団法人 日本表面真空学会,2008,28,0,25-25,https://cir.nii.ac.jp/crid/1390282680655638400,https://doi.org/10.14886/sssj2008.28.0.25.0