著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
舟窪 浩 and 石川 勝之 and 渡辺 隆之 and 三矢 昌俊 and 額賀 紀全,MOCVD法によるエピタキシャル成長SrBi_2Ta_2O_9薄膜の合成とその電気特性評価(<小特集>化学的方法による機能性酸化物膜の合成),日本結晶成長学会誌,03856275,日本結晶成長学会,2000,27,3,111-116,https://cir.nii.ac.jp/crid/1390282680840655744,https://doi.org/10.19009/jjacg.27.3_111