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入戸野 修 and 清水 三郎,X線非平行モノクロメータ法によるエピタキシャル膜の格子変形の測定 : 結晶評価,日本結晶成長学会誌,0385-6275,日本結晶成長学会,1978,5,3,53,https://cir.nii.ac.jp/crid/1390282680874329216,https://doi.org/10.19009/jjacg.5.3_53