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太田 実雄 and 小林 篤 and 尾嶋 正治 and 藤岡 洋,III族窒化物室温成長バッファー層の評価(<小特集>Buffer層を中心としたエピタキシーの新展開),日本結晶成長学会誌,03856275,日本結晶成長学会,2005,32,2,82-88,https://cir.nii.ac.jp/crid/1390282680874759296,https://doi.org/10.19009/jjacg.32.2_82