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松下 ステファン悠 and 松井 一記 and 加藤 大樹 and 中矢 博樹 and 高田 弘樹 and 田岡 琢己 and 山田 太郎 and 粕谷 厚生 and 須藤 彰三,"22pHA-9 高品位水素終端Si(110)-(1×1)表面の開発と表面フォノンII(22pHA 表面界面ダイナミクス,領域9(表面・界面,結晶成長))",日本物理学会講演概要集,2189-0803,一般社団法人 日本物理学会,2011,66.2.4,0,922,https://cir.nii.ac.jp/crid/1390282680955791232,https://doi.org/10.11316/jpsgaiyo.66.2.4.0_922_3