著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
神崎 昌郎 and 野田 正治 and 土井 晴夫 and 上垣外 修己,Ｓｉ薄膜の蒸着とイオン照射によるセラミックスのトライボロジー特性の改善,粉体および粉末冶金,05328799,一般社団法人 粉体粉末冶金協会,1988,35,7,708-711,https://cir.nii.ac.jp/crid/1390282681286162176,https://doi.org/10.2497/jjspm.35.708