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安藤 精後 and 小林 直樹 and 安藤 弘明,３次元制御エピタキシャル成長 ＭＯＣＶＤ選択成長による六角柱ファセットレーザー,表面科学,0388-5321,公益社団法人 日本表面科学会,1995,16,10,638-643,https://cir.nii.ac.jp/crid/1390282681432397056,https://doi.org/10.1380/jsssj.16.638