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三橋 理一郎 and 堀内 淳 and 川原 孝明 and 大路 洋 and 高田 仁志 and 高橋 正志 and 鳥居 和功,「ゲート絶縁膜／Ｓｉ界面の評価」ＨｆＡｌＯｘ／下地膜界面反応抑制の検討,表面科学,03885321,公益社団法人 日本表面科学会,2005,26,5,261-267,https://cir.nii.ac.jp/crid/1390282681436007040,https://doi.org/10.1380/jsssj.26.261