著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
山崎 裕史 and 榎 学,Si/有機高分子絶縁膜界面の密着性評価,日本金属学会誌,00214876,公益社団法人 日本金属学会,2004,68,7,462-467,https://cir.nii.ac.jp/crid/1390282681457269760,https://doi.org/10.2320/jinstmet.68.462