著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
姜 東彪 and 小郷 義久 and 田里 伊佐雄,LiMn<sub>2</sub>O<sub>4</sub>粉の表面処理の充放電特性への影響I．Ag被覆,Electrochemistry,13443542,公益社団法人 電気化学会,1999-04-05,67,4,359-363,https://cir.nii.ac.jp/crid/1390282752369417472,https://doi.org/10.5796/electrochemistry.67.359