著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
佐藤 匠 and 竹中 晴紀 and Du Rui and 召田 雅実 and 都甲 薫 and 末益 崇,スパッタ法によるB-ion-implanted BaSi<sub>2</sub>膜の作製と評価,「次世代の太陽光発電システム」シンポジウム（日本太陽光発電学会学術講演会）予稿集,2436-6498,日本太陽光発電学会,2023-06-23,3,0,85-85,https://cir.nii.ac.jp/crid/1390297205563321728,https://doi.org/10.57295/jpvsproc.3.0_85