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細谷 和輝 and 高橋 一成 and 大家 渓 and 岩森 暁,活性酸素種による表面改質におよぼす紫外線ランプとポリスチレン製細胞培養基板との距離の影響,日本機械学会論文集,2187-9761,一般社団法人 日本機械学会,2018,84,862,17-00561,https://cir.nii.ac.jp/crid/1390564237992614912,https://doi.org/10.1299/transjsme.17-00561