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泉 航太 and 柳谷 隆彦,MgおよびCaドーピングによるZnO薄膜のUHF帯電気機械結合係数<i>k</i><sub>t</sub><sup>2</sup>の向上,応用物理学会学術講演会講演予稿集,2436-7613,公益社団法人 応用物理学会,2021-02-26,2021.1,0,1186-1186,https://cir.nii.ac.jp/crid/1390573947533928448,https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2021.1.0_1186