分子クラスターイオン注入エピウェーハの製品特性（４） -３次元アトムプローブによる重金属ゲッタリングメカニズムの解析-
書誌事項
- タイトル別名
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- Characteristic of Molecular Ion Implanted Epitaxial Wafer (4) -Analysis of Gettering Mechanism for Heavy Metal by Using Atom Probe Tomography-
- 公開日
- 2017-08-25
- DOI
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- 10.11470/jsapmeeting.2017.2.0_3526
- 公開者
- 公益社団法人 応用物理学会
収録刊行物
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- 応用物理学会学術講演会講演予稿集
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応用物理学会学術講演会講演予稿集 2017.2 (0), 3526-3526, 2017-08-25
公益社団法人 応用物理学会