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鶴田 彰宏 and 尾崎 壽紀 and 土屋 雄司,臨界電流非対称性の向上に向けた超伝導薄膜表面処理プロセスの開発,低温工学,0389-2441,公益社団法人 低温工学・超電導学会 (旧 社団法人 低温工学協会),2022,57,6,368-374,https://cir.nii.ac.jp/crid/1390575661578875904,https://doi.org/10.2221/jcsj.57.368