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藤原 一樹 and 寺村 瑞樹 and 田口 健太朗 and 谷口 凱 and 酒井 駿吾 and 石川 博康,常圧MOCVD法によるCuO薄膜の作製 (2),応用物理学会学術講演会講演予稿集,2436-7613,公益社団法人 応用物理学会,2016-03-03,2016.1,0,3980-3980,https://cir.nii.ac.jp/crid/1390576922112476544,https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2016.1.0_3980