著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
津田 嘉香 and 室屋 裕佐 and 古澤 孝弘 and 池田 卓也 and 小室 嘉崇,化学増幅型レジストにおける酸発生剤の分解機構と分解前後の分子構造の変化がレジスト溶解に与える影響の解明,アイソトープ・放射線研究発表会,2436-4487,公益社団法人 日本アイソトープ協会,2023,3,0,45,https://cir.nii.ac.jp/crid/1390578702994592000,https://doi.org/10.50955/happyokai.3.0_45