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辻中 諒 and 古谷 健悟 and 竹内 光明 and 龍頭 啓充 and 高岡 義寛,酸素モノマー・クラスターイオンビーム照射による高分子基板の表面改質,応用物理学会学術講演会講演予稿集,2436-7613,公益社団法人 応用物理学会,2012-08-27,2012.2,0,1573-1573,https://cir.nii.ac.jp/crid/1390579156087778560,https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2012.2.0_1573