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飯田 恭朗 and 鬼木 悠丞 and 岩崎 好孝 and 上野 智雄,HfO<sub>2</sub>/Si構造における界面層作成手法の検討,応用物理学会学術講演会講演予稿集,2436-7613,公益社団法人 応用物理学会,2012-02-29,2012.1,0,2953-2953,https://cir.nii.ac.jp/crid/1390579599233152000,https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2012.1.0_2953