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永田 清一 and 村田 純一 and 小島 信晃 and 大下 祥雄 and 山口 真史,マスクを用いた多孔質シリコン選択化成における基板表面水素の影響,JSAP Annual Meetings Extended Abstracts,2436-7613,The Japan Society of Applied Physics,2011-03-09,2011.1,0,623-623,https://cir.nii.ac.jp/crid/1390580250922019072,https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2011.1.0_623