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川上 瑞人 and 原田 幸弘 and 朝日 重雄 and 喜多 隆,局在表面プラズモン共鳴による高密度ドープInAs/GaAs量子ドットにおける電場増強効果,材料,05145163,公益社団法人 日本材料学会,2024-02-15,73,2,178-182,https://cir.nii.ac.jp/crid/1390580682415520000,https://doi.org/10.2472/jsms.73.178