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小川 修一 and 吉越 章隆 and 高桑 雄二,光電子分光法によるSi表面酸化プロセス反応速度と酸化誘起歪みの同時観察,表面と真空,24335835,公益社団法人 日本表面真空学会,2019-06-10,62,6,350-355,https://cir.nii.ac.jp/crid/1390845713076155008,https://doi.org/10.1380/vss.62.350