デバイス工程中の炭素クラスター注入領域の水素吸着脱離挙動解析
書誌事項
- タイトル別名
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- Dissociation and Association Behavior of Hydrogen in Carbon Cluster Implanted Region during Device Fabrication Process
- 公開日
- 2018-09-05
- DOI
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- 10.11470/jsapmeeting.2018.2.0_3460
- 公開者
- 公益社団法人 応用物理学会
収録刊行物
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- 応用物理学会学術講演会講演予稿集
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応用物理学会学術講演会講演予稿集 2018.2 (0), 3460-3460, 2018-09-05
公益社団法人 応用物理学会
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キーワード
詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390856384292263808
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- ISSN
- 24367613
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC