著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
諏訪 健斗 and 遠藤 則史 and 秋山 昌次 and 田島 圭一郎 and 末光 眞希 and 小西 繁 and 茂木 弘 and 川合 信 and 久保田 芳宏 and 堀場 弘司 and 組頭 広志 and 吹留 博一,酸化イットリウム絶縁膜を用いた高性能エピタキシャルグラフェンデバイス,応用物理学会学術講演会講演予稿集,2436-7613,公益社団法人 応用物理学会,2018-09-05,2018.2,0,3696-3696,https://cir.nii.ac.jp/crid/1390856384292449408,https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2018.2.0_3696