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梅山 規男 and 澁谷 和孝 and 中村 由夫 and 市川 浩一郎 and ソマワン クンプアン and 原 史朗,ミニマルCMP装置によるSi及びSiO<sub>2</sub>膜研磨の面内均一性,応用物理学会学術講演会講演予稿集,2436-7613,公益社団法人 応用物理学会,2014-03-03,2014.1,0,2794-2794,https://cir.nii.ac.jp/crid/1390859635833397888,https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2014.1.0_2794