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鈴木 亜嵐 and シャクール ナウシャド and 落合 良治 and 永島 大樹 and 小林 清輝,シリコン窒化膜の常磁性欠陥に対する熱処理の効果(Ⅱ),応用物理学会学術講演会講演予稿集,2436-7613,公益社団法人 応用物理学会,2013-08-31,2013.2,0,3501-3501,https://cir.nii.ac.jp/crid/1390859989725137024,https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2013.2.0_3501