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齊藤 誠二 and 松田 卓也 and 石黒 啓太 and 高橋 聖司 and 河野 昭彦 and 関口 淳 and 谷口 克人 and 田中 初幸 and 堀邊 英夫,ノボラック系ポジ型レジストにおける溶解抑制剤のエステル化率とリソグラフィー特性の関係,応用物理学会学術講演会講演予稿集,2436-7613,公益社団法人 応用物理学会,2013-03-11,2013.1,0,1499-1499,https://cir.nii.ac.jp/crid/1390860322101077760,https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2013.1.0_1499