著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
布村 正太 and 近藤 道雄,プラズマCVD法によるシリコン系薄膜の成長：気相・表面・膜中の反応と薄膜の高品質化,表面と真空,24335835,公益社団法人 日本表面真空学会,2024-02-10,67,2,44-51,https://cir.nii.ac.jp/crid/1390862080002032640,https://doi.org/10.1380/vss.67.44