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景井 悠介 and 桐野 嵩史 and 小園 幸平 and 箕谷 周平 and 中野 佑紀 and 中村 孝 and 細井 卓治 and 志村 考功 and 渡部 平司,Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>/SiO<sub>2</sub>積層ゲート絶縁膜への窒素添加による4H-SiC MISデバイスのフラットバンド電圧シフトの抑制,応用物理学会学術講演会講演予稿集,2436-7613,公益社団法人 応用物理学会,2010-03-03,2010.1,0,3563-3563,https://cir.nii.ac.jp/crid/1390862400849510272,https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2010.1.0_3563