C<sub>4</sub>F<sub>8</sub>/SF<sub>6</sub>ガス変調サイクルにおいてバイアス印加位相がエッチング形状に及ぼす影響

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  • Impact of bias supply timing on etched feature profiles in the C<sub>4</sub>F<sub>8</sub> and SF<sub>6</sub> cycle process

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