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伊藤 浩 and 川又 由雄 and 大山 昌憲,反応性スパッタリング法による太陽電池パッシベーション膜の作製と評価,東京工業高等専門学校研究報告書 = Research reports of Tokyo National College of Technology,02860503,八王子 : 東京工業高等専門学校,2013-09,,45,71-76,https://cir.nii.ac.jp/crid/1520009407056579840,