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内藤 方夫 and 狩元 慎一 and 山本 秀樹,解説 分子線エピタキシー法を用いた新銅酸化物超伝導体の合成--バルク合成を超える,応用物理,03698009,東京 : 応用物理学会,2002-05,71,5,536-542,https://cir.nii.ac.jp/crid/1520009407359556608,