著者名,論文名,雑誌名,ISSN,出版者名,出版日付,巻,号,ページ,URL,URL(DOI)
Xiaoxu Ma and Yoshiki Kato and Yoshikazu Hirai,AN OPTIMIZATION TOOL FOR 3D LITHOGRAPHY UTILIZING DMD-BASED MASKLESS EXPOSURE SYSTEM,「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム論文集 電気学会センサ・マイクロマシン部門 [編],,[東京] : Institute of Electrical Engineers of Japan,2014-10,31,,5p,https://cir.nii.ac.jp/crid/1520009407729325056,